《先进封装投影光刻机》（Q31/0115000404C021-2017）标准是适用于IC后道封装领域的投影光刻机产品标准，是上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）的企业标准，也是国内唯一的先进封装投影光刻机产品标准，不仅填补了国内行业空白，同时各项关键指标已经达到或超过国外竞争对手所开发同类机型具有国际先进性。2020年“上海标准”评价试点项目的开展，让本产品标准从企业标准走向上海标准。经过多轮行业内专家及第三方机构的评审和论证后，也给出了本产品标准符合国内领先、国际先进要求的结论。

　　对于企业，特别是研发型企业而言，标准的重要度不言而喻。利用自身的技术优势将自己制订的产品技术标准提高到自己能达到而竞争对手难以达到的水平，将对手封杀在产品生产领域之外，是国际竞争中占据有利地位的重要手段。目前，越多的中国企业开始凭借自身优势参与制定国际标准，争夺国际标准话语权。

　　长期以来，在集成电路半导体行业，世界各国大多采用半导体制程设备安全准则（SEMI）标准。SEMI标准适用于所有用于芯片制造、量测、组装和测试的设备，它引领国内外半导体产业建立标准、推动产业的发展。在半导体设备产业领域，国外企业的技术优势明显， 一直垄断SEMI标准的制修订权。如阿斯麦（ASML）多年来一直是SEMI S8工作组的核心委员，负责S2、S8标准的制修订。

　　早些年，我国在集成电路半导体行业内发布的国家标准、行业标准几乎为空白，远远跟不上SEMI标准更新的节奏，导致国内半导体企业没有能力参与制修订SEMI标准。SMEE成立后，肩负突破国际技术垄断、自主研发中国高端光刻设备的使命。多年来，SMEE打破国外设备的垄断局面，成功研发出多个规格的光刻精密设备，填补至少十项高端装备领域的技术空白，成为国内唯一具备制造多领域、多品种产线应用的高端光刻机企业，为争夺国际标准话语权奠定了牢固的技术基础。

　　SMEE十分重视标准化工作，自2008年就建立了企业标准化管理体系，一方面严格遵循SEMI标准，让产品符合SEMI标准的要求；另一方面迎头追赶，积极挖掘各类产品标准，致力于企业产品标准的制定，并在企业标准基础上积极参与国家标准、行业标准的制修订。通过参与国标、行标的制修订，确立了SMEE部分产品在国内半导体行业内的技术优势，具有非常重要的战略意义。除《先进封装投影光刻机》（Q31/0115000404C021-2017）标准以外，SMEE还获得两项国家标准和一项行业标准的制订权，目前已分别在意见征求稿和报批稿阶段。

　　掌握标准话语权的SMEE如同插上腾飞的翅膀，他们生产的光刻机在国内半导体行业中广泛使用，在中国大陆市场占有率超过80%，对国家集成电路产业发展起到极大的推动作用，改变了我国先进封装投影光刻机完全依赖进口的局面。同时，SMEE还将产品推销至海外多家半导体企业，开拓了国际市场，目前国际市场占有率超过40%。

　　《先进封装投影光刻机》（Q31/0115000404C021-2017）标准从企业标准向“上海标准”的推进，旨在通过更多的渠道和方式不断推进光刻机的国产化，不断促进国内半导体行业的自主发展和更多产品国产化的进程。